Prasības augstas{0}}precīzas mērīšanas platformām, kas ir saskaņotas ar optiskās pārbaudes aprīkojumu

Sep 28, 2026 Atstāj ziņu

Mūsdienīgas optiskās pārbaudes iekārtas, tostarp AOI, rūpnieciskā CT, rentgena pārbaude, kontūru mērīšanas instrumenti un femtosekundes/pikosekundes lāzerpārbaudes sistēmas, pabeidz precīzu spriedumu, izmantojot optiskā signāla uztveršanu un attēla analīzi. Optiskās sistēmas ir ārkārtīgi jutīgas pret nelielām atskaites bāzes deformācijām, plaknes gradientiem, gaismas atstarošanas traucējumiem un vides traucējumiem. Daudzi projekti cieš no attēla kropļojumiem, malu pozicionēšanas novirzes un sliktas atkārtojamības nodošanas ekspluatācijā laikā. Galvenais iemesls bieži vien slēpjas nevis optiskajās lēcās vai programmatūras algoritmos, bet gan nepareizi izvēlētās mērīšanas platformās. Optiskās pārbaudes platformas nevar vienkārši pieņemt parasto CMM mērinstrumentu standartus. Visaptverošs novērtējums jāveic no piecām dimensijām: optiskā saderība, struktūras stabilitāte, sprieguma kontrole, atsauces precizitāte un vides savienojuma raksturlielumi.

Pirmkārt, tā ir substrāta optiskā pielāgošanās spēja un iekšējā stabilitāte. Papildus sagatavju gultņiem un pozicionēšanai optiskās mērīšanas platformas netieši ietekmē izkliedētās gaismas atstarošanos un etalona deformāciju ilgās darba stundās. Parasta akmens vai metāla pamatnes virsmai ir tendence radīt difūzu atstarošanos vai lokālu atstarošanos, kas traucē optisko attēlveidošanu. Tikmēr iekšējais materiāla spriegums laika gaitā lēnām izzūd un izraisa nelielu deformāciju, tieši izraisot pozicionēšanas etalonu nobīdi optiskajā redzes laukā. Optisko scenāriju substrātiem nepieciešama augsta stingrība, zems iekšējais spriegums, zema termiskā izplešanās un atbilstoša virsmas tekstūra. Vēlamais variants ir augsta-blīvuma melnais granīts. Tā blīvā un viendabīgā struktūra nomāc izkliedētās gaismas atstarošanos un tai piemīt ārkārtīgi zema deformācijas histerēze, tāpēc pēc ilgstošas ​​nepārtrauktas pārbaudes nenotiks etalona šļūde. Dažām vieglām optiskām lineāro motoru platformām pēc vajadzības var izvēlēties arī precīzo keramiku, oglekļa šķiedras sijas, UHPC vai minerālu lējumus. Katram materiālam ir savas priekšrocības: keramika ir piemērota augstas-tīrības un korozijas{10}}noturīgām optiskajām stacijām; minerālu lējumi nodrošina lielisku amortizāciju, lai novērstu optisko ceļu traucējumus mikrovibrācijas dēļ; oglekļa šķiedras komponenti atbilst lielo-laiduma optisko portālu vieglajām prasībām. Jāizvairās no irdena parastā marmora ar bagātīgām piemaisījumu tekstūrām, jo ​​tas viegli rada nevienmērīgu lokālu deformāciju un mazina optiskās pārbaudes kritērijus.

Otrkārt, plaknes precizitāte un virsmas kvalitāte, līdzsvarojot globālo virsmas profilu un vietējo mikro{0}}morfoloģiju. Parastie mehāniskie mērījumi koncentrējas tikai uz viena-punkta izmēru kļūdām, savukārt optiskā pārbaude ir apgabala attēlveidošana. Sīki viļņi un slīpēšanas viļņi platformas lokālos apgabalos tiks projicēti optiskajos attēlos un veidos viltus defektus. Tāpēc optiskajām platformām ir nepieciešams ne tikai nominālais līdzenums, bet arī pilna-diafragmas atvēruma virsmas kļūdu kontrole, lai samazinātu īso-viļņu garuma virsmas viļņus. Apstrādes laikā slīpēšanas darbības ir jāsabalansē, lai novērstu vietējās augstuma atšķirības. Lielām optisko pārbaužu bāzēm, piemēram, lielas -formāta PCB optiskās pārbaudes un lielas{10}}platības perovskīta pārklājuma pārbaudes platformām, ir jākontrolē plaknes slīpuma kļūda, lai nodrošinātu nepārtrauktus un vienmērīgus etalonus visā attēlveidošanas redzes laukā. Platformas plaknes precizitātei ir jāsaglabā ilgtermiņa stabilitāte, nevis tikai jāiziet pārbaude piegādes laikā un jāsamazina pēc vairāku mēnešu darbības.

Treškārt, konstrukcijas projektēšana un atbalsta izkārtojums, lai novērstu deformāciju zem slodzes. Optiskās pārbaudes aprīkojuma lēcu moduļi, gaismas avoti un kustības slaidi nepārtraukti noslogo platformas lokālos apgabalus. Nepietiekama konstrukcijas stingrība vai nepareizi izveidoti atbalsta punkti slodzes ietekmē izraisīs elastīgu nogrimšanu, defokusējot optisko ceļu. Optisko platformu atbalsta shēmai ir nepieciešama slodzes simulācija, un tajā tiek izmantotas vairāku-punktu adaptīvās atbalsta struktūras, lai izkliedētu aprīkojuma pašsvaru un dinamiskās kustības slodzes. Lielām platformām jāizvairās no lieces deformācijas, ko izraisa konsoles konstrukcijas. Platformas korpusi iziet vairākus novecošanas ciklus, lai pilnībā atbrīvotu tukšo spriegumu un novērstu etalondeformāciju, ko izraisa pakāpeniska spriedzes atbrīvošanās-iekārtas ilgstošas ​​darbības laikā. Optiskajām platformām, kas aprīkotas ar gaisa gultņu kustības asīm, pamatnei ir nepieciešama lielāka stingrība. Neliela deformācija ietekmēs gaisa spraugas vienmērīgumu un vēl vairāk izraisīs trīci lineārā kustībā, pasliktinot lāzera un optiskās pozicionēšanas precizitāti.

Ceturtkārt, smalks tīrības, virsmas apstrādes un montāžas saskarņu dizains. Optiskās pārbaudes stacijas ir ļoti jutīgas pret putekļiem. Sīkas daļiņas uz platformas vai sagataves virsmas optiskās sistēmas identificēs kā defektus. Tāpēc optisko iekārtu platformām ir nepieciešamas blīvas, ne-porainas virsmas, kas ir izturīgas pret putekļu uzkrāšanos un ir viegli tīrāmas. Virsmas apstrāde nedrīkst radīt atkritumus. Iepriekš rezervēti montāžas vītņotie caurumi un pozicionēšanas tapu caurumi tiek izveidoti vienā piegājienā ar stingru pielaides kontroli, lai garantētu vienotus montāžas etalonus optiskajiem moduļiem, lineārajiem motoriem un lineārajām skalām. Platformu malu slīpēšanas un blīvēšanas struktūras ir optimizētas, lai samazinātu putekļu slēpšanas vietas. Pusvadītāju optiskās pārbaudes scenārijos platformām jābūt saderīgām arī ar tīras telpas vidi, un pats materiāls nevarēs viegli nogulsnēt piesārņotājus, lai izpildītu tīras ražošanas prasības.

Granite Surface Plate With Minimal Internal Stress, Long Precision Retention After Machining

Piektkārt, pret{0}}traucējumu iespēja un metroloģijas izsekojamības sistēma, lai nodrošinātu optisko mērījumu atkārtojamību. Optiskā attēlveidošana ir jutīga gan pret mikro-vibrāciju, gan temperatūras gradientiem. Pat niecīga vibrācija aizmiglo attēlus; nelielas temperatūras atšķirības starp platformu un sagatavi izraisa lokālu lieces un nobīdes optiskās attēlveidošanas pozīcijas. Tāpēc optiskās mērīšanas platformas sistēmās ir jāapvieno materiālu temperatūras stabilitāte ar izvēles vibrācijas{5}izolācijas pamatiem un trieciena tranšejām, lai vājinātu ārējās vibrācijas pārraidi. Rūpnīcas pārbaudei nepietiek ar vienu-punktu mērījumu ar vienu mērītāju. Lāzera interferometri un augstas precizitātes elektroniskie līmeņi tiek izmantoti{10}}pilna laukuma virsmas skenēšanai. Verifikācija tiek veikta saskaņā ar DIN, ASME, JIS, GB un citiem starptautiskajiem metroloģijas standartiem. Visus mērinstrumentus var izsekot valsts metroloģijas iestādēm.

Optiskās pārbaudes scenāriji ir ļoti dažādi. Bezsaistes augstas-precizitātes kontūru optiskā pārbaude laboratorijās dod priekšroku nano-pakāpju virsmas granīta atsauces platformām. Ražošanas-līnijas AOI un tiešsaistes PCB optiskajai pārbaudei ir nepieciešama līdzsvarota vibrācijas pretestība un ilgtermiņa stabilitāte. Femtosekundes lāzera optiskās pārbaudes sistēmas izvirza visstingrākās prasības platformas temperatūras novirzei un mikro-vibrācijas kontrolei. Pielāgoti risinājumi jāprojektē atbilstoši optiskā ceļa veidam, skenēšanas diapazonam, kustības slodzei un darbnīcas videi.

UNPARALLELED GROUP lepojas ar daudzu{0}}materiālu precizitātes komponentu ražošanas jaudu. Balstoties uz gadu ilgām zināšanām un metroloģijas pētījumiem no nozares-universitāšu-pētniecības sadarbības, mēs pielāgojam optiskās pārbaudes aprīkojuma precizitātes bāzes atbilstoši to unikālajam optiskajam ceļam un attēlveidošanas īpašībām. No materiāla izvēles un struktūras optimizācijas līdz virsmas slīpēšanai un metroloģijas verifikācijai viss process atbilst optiskās pārbaudes etalonprasībām. Stabilas un uzticamas augstas{6} precizitātes gultņu platformas tiek nodrošinātas AOI, lāzerpārbaudēm, rūpnieciskajai CT un citām optiskām iekārtām, lai atbalstītu precīzu un stabilu optiskās attēlveidošanas izvadi.